Программа MaxMarking 2 распространяется производителем лазерных компонентов Maxphotonics
Программа MaxMarking 2 устанавливается на лазерные граверы производства Maxphotonics/ Для полноценной работы программы требуется оригинальный контроллер.
Последняя версия программы 2.7.10 релиз от 08.11.2019 скачать можно здесь >>>
Программа MaxMarking2 доступна на русском языке с инструкцией на русском языке.
Основные возможности программы «MaxMarking2»:
- Визуальный редактор «WYSIWYG»;
- Отображение основных параметров работы оборудования с возможностью их быстрого изменения;
- Возможность редактирования параметров гравировки в графическом режиме;
- Импорт растровых графических файлов в формате *.bmp;*.jpeg; *.jpg; *.png; *.tiff и векторных файлов в формате *.dxf; *.dvg; *.plt; *.svg *.eps; *.ai (3-8);
- Динамическая заливка контурных файлов;
- Возможность просмотра и редактирования различных векторных изображений на уровне отдельных кривых Безье и узлов;
- Создание несложных графических изображений в виде базовых фигур («овалоугольник», «эллипс», «эллиптическая дуга», «отрезок», «полилиния», «кривая Безье») без необходимости импорта графических файлов;
- Создание текстовых надписей с использованием предустановленных шрифтов TrueType (обычный, жирный, курсив) и векторных шрифтов;
- Создание текстовых надписей с начертанием по ГОСТ 26.008-85 для обеспечения гравировки текстов с наклонным профилем символов;
- Генерация штрих-кодов стандартных форматов: линейные (одномерные) штрих-коды (EAN/UCC, ITF, Code, ISBN, UPC и др.); двумерные коды (PDF417, MicroPDF, Data Matrix, QR и др.);
- Разделение объектов на группы по цветам с возможностью задать каждому цвету индивидуальные режимы гравировки;
- Цифробуквенная серийная маркировка;
- Возможность группировки объектов, задания общих свойств обработки для группы объектов и для каждого объекта в отдельности;
- Штриховка растровых изображений под любым заданным углом с регулируемой плотностью линий, оконтуривание растровых изображений;
- Программная настройка и коррекция размеров и геометрии поля обработки для всех применяемых объективов;